光學鍍膜如何影響顯微鏡的成像質量
點擊：6081 日期：2015.06.08
【摘要】光學顯微鏡鍍膜的原理是高能離子或原子轟擊某金屬靶，并把自己的動量轉給靶中的原子，后者得到足夠的能量時就有可能脫離與相鄰原子的結合，由靶中逸出。
光學顯微鏡鍍膜的原理是高能離子或原子轟擊某金屬靶，并把自己的動量轉給靶中的原子，后者得到足夠的能量時就有可能脫離與相鄰原子的結合，由靶中逸出。這些被釋放出的原子(或原子團)沉積在樣品表面形成了一連續的導電覆蓋層。
奧林巴斯顯微鏡通常濺射過程是伴隨輝光放電而產生。
輝光放電是一種氣體放電。
如果一個容器中有兩個電極，極間充有悄性氣體，將這兩電極間加直流電壓(1---3k V)，在某種外來因素(如陰極表面受短波輻波等)作用下，使陰極產生電子并飛向陽極。在電子向陽極運動時，尼康顯微鏡不斷和氣體分子碰撞而產生正離子和自由電子，正離子在電場作用下向陰極運動時也不斷和氣體分子碰撞又產生電子和正離子。
當極間的離子與電子足夠多時，電流突然增大，電壓值下降，這相當于電極間電阻變小，空氣成了導體。當大量正離子轟擊陰極表面時，尼康顯微鏡將足夠的能量交給金屬陰極的某些原子(或原子團)，后者便脫離表面向外“飛出”。這些“飛出”的原子或原子團在與殘余氣體分子反復撞擊后，便由四面八方附著在樣品表面.如果它們還有足夠多的能量，光學顯微鏡則到達待搜蓋樣品的表面時有可能射入1-2個原子層的深度。
奧林巴斯顯微鏡金屬原子在樣品表面的沉積速度與許多因素有關.首先，轟擊金屬陰極靶的氣體離子能量增加時濺射出的金屬原子能量也增大。其次，容器中的氣體壓強增大或放電電流密度增高時，氣體正離子數量和密度也增大。第三，顯微鏡價格樣品與金屬靶的距離越近，沉積速度越大，但過度接近會使樣品受熱，一方面損傷標本，同時氣體中的雜質也影響沉積速度。
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